RENNER Pumpen und Filter für die Elektronik-Industrie
Die Herstellung von Elektronik-Bauteilen erfordert eine Vielzahl von komplexen chemischen Nassprozessen, bei denen der Einsatz spezieller Pumpen sowie Filter notwendig ist.
Die dabei zum Einsatz kommenden Flüssigkeiten sind meist aggressiv oder toxisch und stellen höchste Anforderungen an die Materialien, aus denen unsere Pumpen und Filter gefertigt werden. Alle Komponenten einer RENNER Pumpe müssen daher in punkto Belastungsfähigkeit und Langlebigkeit absolut zuverlässig sein, um größte Prozesssicherheit und ein konstant perfektes Endergebnis zu garantieren.
Bei der Herstellung von Leiterplatten und in der Photovoltaik spielen „Abtragende Prozesse“ eine große Rolle. Neben der Verwendung von unterschiedlichen Materialien, wie z.B. Multi-Layer und Keramiksubstrate, umfasst die Leiterplatten-Produktion viele Prozess-Schritte: Dies sind neben dem Entwickeln, dem Sauren sowie Alkalischen Ätzen und Strippen auch die Metallisierung und das Oberflächenfinish, die in einer horizontalen Durchlaufanlage stattfinden. Zwischen diesen einzelnen Prozess-Schritten sind verschiedene Spül-Module integriert, wodurch eine möglichst geringe Verschleppung der bei den Einzel-Prozessen eingesetzten unterschiedlichen Chemikalien gewährleistet werden soll.
In allen diesen Prozess-Schritten werden spezielle Pumpen benötigt, in der Regel handelt es sich dabei um Tauchkreiselpumpen. Es können aber auch Magnetkreiselpumpen verwendet werden. In speziellen Fällen, wenn z.B. ein zu hoher Lufteintrag in das Medium für den Prozess zwingend verhindert werden muss, finden auch sogenannte Magnettauchpumpen Anwendung. Dabei handelt es sich um eine Kombination von magnetisch gekuppelten Kreiselpumpen und Eintauchpumpen.
Auch bei der Produktion von Leitplatten und Solarzellen werden verschiedene Produkte von RENNER eingesetzt: Dabei handelt es sich hauptsächlich um die Tauchkreiselpumpen RT mit ihrer spezieller speziellen Abdichtung sowie die Magnetkreiselpumpen RM und die Magnettauchpumpen RTM. Bei den einzelnen Filtrationsprozessen kommt das komplette RENNER Filterprogramm zum Einsatz – hier vor allem unsere Schnellwechselfilter SF.
Dies gilt in gleichem Maße für „Auftragende Prozesse“ – etwa bei der Galvanisierung von Teilflächen oder ganzen Kupferflächen mit metallischen Schutz- und Kontaktschichten aus Zinn, Nickel oder Gold. Auch für solche komplexen Aufgaben sind RENNER Pumpen und Filter hervorragend geeignet.
RENNER Pumpen – Anwendungsbereiche
Das Gebiet der Elektrotechnik umfasst viele Anwendungsbereiche und Produkte, weshalb bei der Herstellung ganz unterschiedliche Prozesse und Verfahren notwendig sind.
Unsere Partner in der Industrie stammen aus vielen Bereichen, wie z.B. Fahrzeugbau, Computertechnologie, Elektrotechnik und erneuerbare Energien (Solarzellen-Produktion).
RENNER Pumpen werden bei folgenden Verfahren standardmäßig eingesetzt:
- Bandgalvanisierung, z.B. von elektronischen Steckerkontakten
- Alle Prozessschritte zur Herstellung von Leiterplatten, wie Entwickeln, Strippen, Ätzen, Spülen
- Handgalvanisierung
- Kunststoffgalvanisierung
- Nasschemische Ätzung von Glas- und Siliziumsubstraten
- Edelmetall-Rückgewinnung
- Keim-Hemmung in Galvanik-Bädern
- Abluftwäscher
- Abwasserbehandlung
RENNER Pumpensysteme – Überblick
In Abstimmung auf das jeweilige Verfahren bzw. den Einsatzbereich kommen verschiedene RENNER Pumpen-Typen zum Einsatz. Am häufigsten verbreitet ist hier die Tauchkreiselpumpe, gefolgt von der Magnetkreiselpumpe. Die Entscheidung für ein Pumpen-System richtet sich hierbei nach den kundenspezifischen Vorgaben und den verschiedenen Anwendungsbereichen.
RENNER Pumpen bewähren sich nicht nur im stationären Einsatz, sondern gerade auch bei mobilen Anwendungen. Dazu gehören vor allem:
- Mobile Filterstationen (z.B. REN-ADSORB)
- Pumpen und Filter in Mini-Bauweise
- Bewegungsautomaten zur kontinuierlichen Vor- u. Rückwärtsbewegung von Warenträgern
Unsere Tauchkreiselpumpen kommen insbesondere dann zum Einsatz, wenn ein Nassprozess keine Magnetkupplung zulässt bzw. das Konzept der Anlage direkt dort verbaute bzw. eingetauchte Pumpen vorsieht.
Unser umfangreiches Produktportfolio enthält Tauchkreiselpumpen für kleinste Fördermengen (< 30 l/min.) als auch für sehr große Fördermengen (> 1.000 l/min).
Zudem haben wir in unserem Portfolio auch passende Pumpen für hohe Behälter, die für eine entsprechende Eintauchlänge (bis 500 mm ohne Zwischenlagerung und somit trockenlaufsicher) konzipiert sind.
Tauchkreiselpumpen von RENNER sind daher in jedem Fall hervorragend für das Fördern und Umwälzen aggressiver, toxischer oder auch abrasiver Medien geeignet.
In Abhängigkeit von den spezifischen chemischen oder thermischen Anforderungen fertigen wir unsere Pumpenkomponenten aus ganz unterschiedlichen Werkstoffen, die den jeweiligen Ansprüchen genügen. Dies garantiert eine gleichbleibend hohe Leistungsfähigkeit sowie auch eine lange Lebensdauer.
RENNER Tauchkreiselpumpen sind für die vertikale Installation konstruiert, wie dies in drucklosen Behältern, offenen Becken oder Gruben der Fall ist. Diese Bauweise erweitert das Anwendungsspektrum bei den unterschiedlichen Nass-Chemischen-Verfahren. Daher sind unsere Tauchkreiselpumpen auch als dichtungslose, gasdichte Ausführung (RTM) innerhalb von Behältern erhältlich oder bei Platzproblemen für die vertikale Installation außen am Behälter (RT-A).
Einige Nass-Chemische-Prozesse erfordern den Einsatz einer Magnetkreiselpumpe. Hier erlaubt die magnetische Kupplung im Unterschied zur Mechanik der Tauchkreiselpumpe eine berührungslose Drehmomentübertragung.
Alle RENNER Magnetkreiselpumpen sind hermetisch dicht konstruiert und daher vollkommen leckagefrei. Aufgrund dieser besonderen Eigenschaften sind sie ideal geeignet für die Förderung von aggressiven Flüssigkeiten außerhalb der Prozessbehälter.
Dabei werden sie üblicherweise außerhalb eines Tauchbehälters bzw. Mediums installiert, eine entsprechende Verrohrung sorgt für die Integrierung in das Anlagensystem, dies kann z.B. aus Sicherheits- bzw. Platzgründen oder auch aus Konstruktionsgründen der Fall sein.
Die durch einen Nass-Chemischen-Prozess erzeugten oder abgetragenen Schichten sind dabei extrem dünn, weshalb jede Verunreinigung der Prozessbäder durch Schmutzpartikel unbedingt vermieden werden muss. RENNER Filter bieten hier für alle Verfahrenstechniken und Prozess-Schritte eine hervorragende und dauerhafte Leistung: vom Entwickeln über das Strippen, Ätzen und Spülen bis zur Nachbehandlung. Gleiches gilt auch für die dabei anfallenden notwendigen Nebenprozesse, z.B. die Abwasser- und Abluftbehandlung.
RPR-Control, der elektronische Prozess-Schutz von RENNER, schützt außer den Pumpen auch den chemischen Nassprozess selbst. RPR-Control warnt zuverlässig bei verschmutzten Filtern sowie der Gefahr von Trocken- und Heißlauf, Überlast sowie in kritischen Situationen und schaltet die betroffenen Pumpen ab, bevor irgendein Schaden entstehen kann. Zugleich prüft das Kontroll-Modul die jeweilige Sollfördermenge. Dadurch werden langwierige und kostspielige Ausfälle verhindert.
Für die industrielle Fest-Flüssig-Trennung bietet RENNER ein umfangreiches Portfolio an Filtern an. Dazu gehören insbesondere Filterkerzen, -beutel und -papier, aber auch Adsorptionsmedien, wie z.B. „Spaghetti“-Filter, „Engelshaar“ oder Aktivkohle.
RENNER liefert dabei für alle gängigen Filtergehäuse die erforderlichen Verbrauchsmaterialien.
RENNER Qualität und Service
Alle RENNER Produkte zeichnen sich neben diesen überragenden Eigenschaften auch durch die Verwendung hochwertiger Materialien und Komponenten sowie eine hohe Fertigungstiefe aus. Unser breites Angebot, das an viele Pumpen-Modelle in unterschiedlicher Größe sowie Leistungsstärke enthält, eignet sich daher für die unterschiedlichsten Anwendungsszenarien. Nicht zuletzt sprechen auch unsere kompetente Beratung und große Erfahrung wie auch unser persönlicher Wartungsservice für RENNER.
Ihr Ansprechpartner für RENNER Pumpen- und Filtersysteme im Bereich Elektronik:
Tel. +49 (0) 7043 951-0
E-Mail: elektronik@renner-pumpen.de